。前處理。

1化學(xué)拋光原理

目前，一般認(rèn)為化學(xué)拋光和電解拋光一樣主要有綜合粘膜說(shuō)和受阻說(shuō)兩種理論

。就化學(xué)拋光機(jī)理而言，實(shí)際上是利用金屬表面上凸凹部位溶解速度不同，凸出部位溶解速度大于凹入部位，化學(xué)拋光依賴(lài)于化學(xué)反應(yīng)。因?yàn)槿魏谓饘俦砻娑即嬖谥沼^的凸凹不平，那怕只有10u m。鋅合金壓鑄件中存在著其它元素機(jī)雜質(zhì)，所以金屬表面就會(huì)出現(xiàn)許多電位不同的部位，化學(xué)拋光時(shí)微觀凸出部位溶解下來(lái)的產(chǎn)物容易擴(kuò)散，粘性膜常處于活化狀態(tài)．凹下部位則相反，粘性膜厚常處于鈍化狀態(tài)．整個(gè)化學(xué)拋光過(guò)程就是處在這樣一種活化→鈍化→活化→鈍化的交替過(guò)程轉(zhuǎn)換來(lái)完成的。從受阻說(shuō)來(lái)看，由于溶液中受阻的陽(yáng)離子．大分子等可同溶解的金屬離子結(jié)合并離開(kāi)金屬，而陽(yáng)離子．大分子的遷移又受到粘膜厚薄的制約，在薄處因距離短、速度快而比凹處優(yōu)先溶解，從而最后達(dá)到平整。因此，該工藝的技術(shù)關(guān)鍵在于溶液的配方和合理的工藝參數(shù)選擇。

2化學(xué)拋光工藝及后續(xù)工藝處理

目前，由于對(duì)鋅合金壓鑄件進(jìn)行化學(xué)拋光的文獻(xiàn)和工藝配方報(bào)導(dǎo)甚少

，而一般化學(xué)拋光工藝配方又難以滿(mǎn)足表面質(zhì)量要求，譽(yù)格經(jīng)過(guò)反復(fù)多次進(jìn)行配方篩選，試驗(yàn)結(jié)果表明下列工藝配方能夠滿(mǎn)足鋅合金壓鑄件的化學(xué)拋光表面質(zhì)量要求。

磷酸(工業(yè)級(jí))              50%

硝酸(工業(yè)級(jí))              35%

氫氟酸(工業(yè)級(jí))            10%

硫酸(工業(yè)級(jí))              5%

表面活性劑                適量

溫度                      30C

拋光時(shí)間                  5～20min

經(jīng)化學(xué)拋光的鋅合金壓鑄件出槽后須立即進(jìn)行水冼

，最好是流水沖洗。因?yàn)楣ぜ膾伖庖褐须y免帶出酸根離子，如果不對(duì)化學(xué)拋光工件作后續(xù)處理，殘留酸會(huì)對(duì)基體進(jìn)一步腐蝕，且?guī)С龅倪@些明離子一但與水中的Ca2+、Na+等陽(yáng)離子接觸，還會(huì)降低原有的金屬光澤。所以需進(jìn)行后續(xù)工藝處理